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超分辨光刻裝備項(xiàng)目通過國家驗(yàn)收 可加工22納米芯片

作者:張之豪 來源:中國日報(bào)網(wǎng)
2018-11-30 10:55:46

中國日報(bào)11月30日電(記者 張之豪)11月29日國家重大科研裝備研制項(xiàng)目“超分辨光刻裝備研制”29日通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制,光刻分辨力達(dá)到22納米,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來還可用于制造10納米級(jí)別的芯片。

中科院理化技術(shù)研究所許祖彥院士等驗(yàn)收組專家一致表示,該光刻機(jī)在365納米光源波長下,單次曝光最高線寬分辨力達(dá)到22納米。項(xiàng)目在原理上突破分辨力衍射極限,建立了一條高分辨、大面積的納米光刻裝備研發(fā)新路線,繞過國外相關(guān)知識(shí)產(chǎn)權(quán)壁壘。

光刻機(jī)是制造芯片的核心裝備,我國在這一領(lǐng)域長期落后。它采用類似照片沖印的技術(shù),把母版上的精細(xì)圖形通過曝光轉(zhuǎn)移至硅片上,一般來說,光刻分辨力越高,加工的芯片集成度也就越高。但傳統(tǒng)光刻技術(shù)由于受到光學(xué)衍射效應(yīng)的影響,分辨力進(jìn)一步提高受到很大限制。

為獲得更高分辨力,傳統(tǒng)上采用縮短光波、增加成像系統(tǒng)數(shù)值孔徑等技術(shù)路徑來改進(jìn)光刻機(jī),但技術(shù)難度極高,裝備成本也極高。

項(xiàng)目副總設(shè)計(jì)師胡松介紹,中科院光電所此次通過驗(yàn)收的表面等離子體超分辨光刻裝備,打破了傳統(tǒng)路線格局,形成一條全新的納米光學(xué)光刻技術(shù)路線,具有完全自主知識(shí)產(chǎn)權(quán),為超材料/超表面、第三代光學(xué)器件、廣義芯片等變革性領(lǐng)域的跨越式發(fā)展提供了制造工具。

據(jù)了解,這種超分辨光刻裝備制造的相關(guān)器件已在中國航天科技集團(tuán)公司第八研究院、電子科技大學(xué)、四川大學(xué)華西醫(yī)院、中科院微系統(tǒng)所等多家科研院所和高校的重大研究任務(wù)中得到應(yīng)用。

(編輯:齊磊 許聃)

 
 

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